真空镀膜机首要指一类需求在较高真空度下进行的镀膜，详细包含许多品种，包含真空离子蒸腾，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射堆积等许多种。首要思路是分成蒸腾和溅射两种。需求镀膜的被称为基片，气相沉积设备，镀的资料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
薄膜均匀性概念 厚度上的均匀性，小型气相沉积设备，也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看(也便是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，也便是说关于薄膜的光学特性来说，气相沉积设备厂商，真空镀膜没有任何妨碍。 但是如果是指原子层标准上的均匀度，也便是说要实现10A甚至1A的外表平整，详细操控因素下面会依据不同镀膜给出详细解释。
真空镀膜设备要在真空条件下工作，因此该设备要满足真空对环境的要求。真空对环境的要求，一般包括真空设备对所处实验室
的温度、空气中的微粒等周围环境的要求，和对处于真空状态或真空中的零件或表面要求两个方面。真空镀膜机光学加工工艺发展情况及未来趋势，中国的光学镀膜零件冷加工在中华民国时期是非常稀少的。手机镀膜机主要是将纳米液均匀的涂抹在手机屏幕，气相沉积设备厂家，等几分钟固化后会形成看不出来的膜，防刮，抗污，不起卷边，对手机没有伤害。
影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?
磁场不均匀的影响
由于实际的磁控溅射装置中电场和磁场不是处处均匀的，也不是处处正交的，都是空间的函数。写出的三维运动方程表达式是不可解的，至少没有初等函数的解。所以磁场的不均匀性对离子的影响，也即对成膜不均匀性的影响是难以计算的，好的方法就是配合实验具体分析。图1是用中频孪生靶柔性卷绕磁控溅射镀膜装置实验得出的靶磁场均匀性和成膜厚度均匀性的对应关系。
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