无论监控仪精度怎样，硅胶纳米镀膜设备，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，高埗纳米镀膜设备，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响较小。
Parylene是美国Union Carbide Co.公司在六十年代推出的一种气相沉积高分子聚合物材料，由的真空气相沉积工艺制备，能涂敷到各种形状的表面，号称“无孔不入”，被业内称为好的防潮、防霉、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。Parylene可分为N型、C型、D型、F型、HT型等多种类型
现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。
真空镀膜机镀膜过程中，金属配件纳米镀膜设备，都要应用到电源，镀的基材不同，工艺不一样，设备配置也不一样，采用的电源，也就不一样。在实际镀膜过程中，该电源要能自动检测灭弧现象并自动引弧，保证镀膜过程中的连续性和膜层的均匀性；此外，电弧电源的稳弧性能尤其是小稳弧电流对膜层的一致性、效率性和光洁度影响很大。操作轻便，电流调节精度较高，稳流性能好，有利于控制膜厚及保证膜厚的重复性。
真空镀膜设备选购因素
1、真空系统由机械泵、扩散泵、增扩泵、油增压泵、罗茨泵、埚轮分子泵等及与它们相匹配的各种气动、手动、电动阀门、管道等组成。
2、根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。
3、炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。
真空镀膜机的镀膜性能
（1） 金属外观
（2） 均色
（3） 耐用表面，在各种基本空气和阳光直射环境条件下保持良好外观。
（4） 颜色深沉明亮
（5） 它是经济的，并且可以减少清洁和抛光电镀黄铜或金所需的时间和成本。
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