真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，cvd化学气相沉积，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
周围环境的好坏直接影响真空设备的正常使用；而真空设备的真空室或装入里面的零件是否清洗，又直接影响设备的性能。如果空气中含有大量的水蒸气和灰尘，多功能化学气相沉积，在真空室没有经过清洗的情况下用油封机械泵去抽气，要达到预期的真空度很难的。
真空磁控阴极溅射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔体内，处在负电压的两极间的工作气体正离子在正交电磁场的作用下飞向阴极，在很短的阴极位降区内获得很大的能量去迅速轰击靶材，从而使阴极(靶材)原子飞向玻璃基片--玻璃沉积膜层，溅射出的二次电子(此过程称γ过程)在电磁场作用下按旋轮线运动参与碰撞电离，蟹衍载流子，这样就能源源不断地轰击阴极，提供足够数量的正离子，化学气相沉积技术，形成的等离子区使持续辉光放电，其可以一次完成多层镀膜，有着的膜层均匀性，的边缘复盖和良好的附着力。镀膜有着优于和区别于其它真空磁控溅射镀膜机的地方是：它的平面磁控靶上的磁场是由环形磁铁产生的，可将半园环形磁铁看成是T微扇柱状磁铁的组合 。所以，其相应点磁标势较稳定，才能生产出均匀牢固的镀膜层。
利用新纳米技术开发的功能金属氧化物薄膜材料（Functional Thin-Film metal-Oxides Materials，具有优良的电磁传导、物理化学和机械性能，可广泛应用于节能照明、显示电子、化合物检测、柔性透明和气体传感等领域，具有开启后硅基半导体电子新时代的巨大潜力。欧盟第七研发框架计划（FP7）提供980万欧元资助，大涌化学气相沉积，总研发投入1340万欧元，由欧盟8个成员国德国（总协调）、英国、意大利、比利时、荷兰、葡萄牙、希腊和斯洛文尼亚，微纳米电子工业界联合科技界组成的欧盟微纳米电子技术平台（ORAMA ETP）。在建立紧密合作型研发公私伙伴关系（PPP）的同时，将长期致力于功能金属氧化物薄膜材料的研制开发及商业化推广应用。
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