镀膜设备的镀膜方式：离子镀，蒸发镀，溅射镀
(1)镀膜设备的特点： 成膜速度快0.1- 50um/min，设备比较简单，操作容易;制得薄膜纯度高;薄膜生长机理较简单。
镀膜设备镀出的产品掉膜是怎么回事?
一、产品表面洁净度不够，离子源清洗气放大时间长点。
二、清洗是否有加了清洗剂，或者更换了清洗剂，建议用纯水先试一下。
三、工艺参数是否有变动在膜厚和电流上可以做点调整。
真空镀膜机主要是指需要在高真空度下进行的镀膜，LH320气相沉积设备，包括真空蒸发镀膜机、真空多弧离子镀膜机、真空中频磁控溅射镀膜机、多功能中频磁控溅射多弧复合离子镀膜机、真空光学(电子束蒸发)镀膜机等。
真空镀膜机的操作注意事项
1、真空电镀机操作员要穿着整洁，气相沉积设备，袖口扣紧（佩戴袖套），上衣下摆不能敞开，不得穿拖鞋、高跟鞋；
2、检查电路各控制开关能否正常断开闭合，H750气相沉积设备，电压指示380±20V；
3、检查各螺钉处连接是否牢固，电控柜、主机的连接线有无松脱现象、接地是否良好；所有电器的开关在零或者“关”的位置上；
手机真空镀膜设备有哪些特点?蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且沉积在基片表面，经历成膜过程，形成薄膜。
真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置，在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（铝丝）熔融汽化，气相沉积设备销售，汽化了金属分子沉积于基片上，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。
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