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镀膜有许多优点，多功能化学气相沉积设备，如设备与工艺相对比较简单，即可沉积非常纯净的膜层，又可制备具有特定结构和性质的膜层等等，仍然是当今非常重要的镀膜技术。镀膜系统一般由三个部分组成：真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料，需要容器来支撑或盛装蒸发物，化学气相沉积设备，同时需要提供蒸发热使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。

真空镀膜设备由许多不同的零件组成，化学气相沉积设备报价，它们都是经过各种机械加工完成的，例如车铣、刨、磨、镗、焊接等。零件组装前必须清除掉污染物。真空镀膜设备在使用过程中，零件还会受到污染。这种污染与使用条件及真空泵有关。真空镀膜设备有：立式，卧式。可加工的产品包括：手机、DVD、MP3、PDA外壳、按键、化妆品外壳、工艺礼品，玩具。化学气相沉积设备

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手机真空镀膜设备有哪些特点?蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。

对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且沉积在基片表面，经历成膜过程，形成薄膜。

真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置，在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（铝丝）熔融汽化，汽化了金属分子沉积于基片上，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。