东莞拉奇纳米科技有限公司是一家从事纳米镀膜代工与纳米镀膜设备制造销售的公司，是将派瑞林（PA-RYLENE）高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性：防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。
真空镀膜机过程的清洁度是影响真空镀膜附着力的主要指标之一。因此，H750镀膜设备，为了避免真空污染，设备零件的表面清洗处理是非常重要的。真空镀膜机设备表面处理有四种基本方法
溶剂脱脂
附着在真空设备零件上的油可分为动植物油和矿物油。动植物油可用碱溶液化学法除去，塑料镀膜设备，矿物油可用除去。
然而，在实际的清洗设备中，通常使用两种溶剂。
如何测量真空镀膜机的厚度?
理想的膜厚是基片表面与膜表面之间的距离。在薄膜形态的三维测量中，其他二维测量相对于薄膜厚度可以说是大的。由于实际表面是不均匀、不连续的，而且膜内部可能存在气孔、杂质、晶格缺陷、表面吸附分子等，镀膜设备，实际上很难严格定义和准确测量膜的厚度。薄膜厚度的定义取决于寻址方法和寻址目的。因此，相同的薄膜，采用不同的测量方法会得到不同的结果，即不同的厚度。
影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?
靶基距、气压的影响
磁控溅射真空镀膜机靶基距也是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数，薄膜厚度均匀性在一定范围内随着靶基距的增大有提高的趋势，溅射工作气压也是影响薄膜厚度均匀性重要因素 。但是，这种均匀是在小范围内的，因为增大靶基距产生的均匀性是增加靶上的一点对应的基材上的面积产生的，而增加工作气压是由于增加粒子散射产生的，显然，这些因素只能在小面积范围内起作用。
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