镀的基本原理：在真空条件下，金属、金属合金等被蒸发蒸发，然后沉积到基体表面，蒸发法通常采用电阻加热，电子束轰击镀料，使其蒸发成气相，然后沉积到基体表面。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。
真空镀膜目的是希望减少光的反射，增加透光率，抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同颜色的真空镀膜，也使的成像色彩平衡的不同。
真空镀膜过程其工艺之多非常复杂，真空镀膜加工原理有不同可分很多种类，低压化学气相沉积技术，对于不同原理的真空镀膜加工，影响均匀性的因素也不尽相同。
真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。真空镀膜加工表面的清洁处理非常重要，直接影响到电镀的产品品质。真空镀膜技术一般分为两大类，增城低压化学气相沉积，即物理气相堆积技术和化学气相堆积技术。
真空镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法，低压化学气相沉积工艺，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。
相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜。真空条件下制备薄膜，环境清洁，膜不易受到污染，因此，低压化学气相沉积多少钱，可获得致密性好、纯度高、膜层均匀的膜。
镀膜加工的优点
简单清洁，不吸尘。
使塑料外表有导电性，改善美观，外表光滑，金属光泽彩色化，大大提高装饰性。
改进外表硬度，原塑胶外表比金属软而易受损害，经过真空镀膜技术，硬度及耐磨性大大添加。
能够提高耐候性，削减吸水率，镀膜次数愈多，孔愈少，吸水率下降，制品不易变形，提高耐热性。
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