影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?
靶基距、气压的影响
磁控溅射真空镀膜机靶基距也是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数，薄膜厚度均匀性在一定范围内随着靶基距的增大有提高的趋势，塑胶镀膜设备工厂在哪，溅射工作气压也是影响薄膜厚度均匀性重要因素 。但是，这种均匀是在小范围内的，因为增大靶基距产生的均匀性是增加靶上的一点对应的基材上的面积产生的，塑胶镀膜设备工厂哪里近，而增加工作气压是由于增加粒子散射产生的，显然，这些因素只能在小面积范围内起作用。
高真空电子束蒸发镀膜机是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。
可根据用户使用要求，选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式，塑胶镀膜设备哪里好， 通过PLC 和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制，塑胶镀膜设备， 包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等，从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。
PVD真空镀膜机常见问题：
首先，启动时必须检查水通道，确保玻璃钢冷却塔、机械泵不是所有正常工作，检查气体供应是否平稳，清空压缩机不是所有正常工作。
二、要明确真空泵房间内的聚酰膜、离子源钨丝、产品工件架是不是按要求置放。
三、加工工艺进行后要关掉射线管和离子源等电源开关，待真空镀膜机器设备制冷一消退后才可断电。？
四、没经容许不能开实体店电控柜、真空系统的地铁屏蔽门。
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