如何测量真空镀膜机的厚度?
理想的膜厚是基片表面与膜表面之间的距离。在薄膜形态的三维测量中，其他二维测量相对于薄膜厚度可以说是大的。由于实际表面是不均匀、不连续的，而且膜内部可能存在气孔、杂质、晶格缺陷、表面吸附分子等，实际上很难严格定义和准确测量膜的厚度。薄膜厚度的定义取决于寻址方法和寻址目的。因此，相同的薄膜，采用不同的测量方法会得到不同的结果，即不同的厚度。
真空镀膜机的工作原理是怎样的？
为了实际实现状态反馈控制规律，必须采用可以直接测量的控制对象输入与输出，根据真空镀膜机建立确定状态的动态系统，称其为观测器。由输出确定控制规律本身的动态系统称为动态补偿器。
基于状态方程式进行控制系统设计的至大特点之一是在确定控制规律后，独立进行这种状态估计器的设计。
也就是说，镀膜设备价格，除了控制对象的构造之外，L5000镀膜设备，都是利用算法计算求出来的。
这样就构成了既包含外部环境在内的控制对象，又能使闭环稳定且能跟踪目标值的系统。但是，真空镀膜机厂家的设计人员感到困难的问题是在给出具体设计指标后，究竟利用评价函数还是利用极点配置的方法问题。
为解决这个问题，通常是改变评价函数，镀膜设备，再根据控制系统特性的变化，寻求出优评价函数，对此需要反复进行几次才行。
真空镀膜机的系统控制往往采用阶梯状或块状的线性自由系统输出来表达外干扰和目标值的形式。因此，在现代控制理论中，特别是将这种控制系统称为“伺服系统”。
这种伺服系统的设计按如下步骤进行：建立包含有干扰和目标值等控制对象的外部环境模型，镀膜设备工厂，对于与控制对象组合的全系统，寻求状态反馈规律。
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真空镀膜是一种表面非常薄的透明薄膜。目的是减少光的反射，提高透射率，抵抗紫外线，抑制耀斑和鬼影；不同颜色的真空镀膜也使成像色彩平衡不同。此外，真空镀膜还可以延迟透镜的老化和变色时间。
PVD是英文Physical Vapor Deition(物理气相沉积)的缩写。是指在真空条件下，利用低压大电流电弧放电技术，利用气体放电蒸发靶材，使蒸发的物质和气体电离，利用电场加速度将蒸发的物质及其反应产物沉积在工件上。
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